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首頁-成功案例-25年03月22日河北配置安捷倫ICPMS 7900S+氬氧/氫氣碰撞裝置/有機進樣適用于半導體材料分析

25年03月22日河北配置安捷倫ICPMS 7900S+氬氧/氫氣碰撞裝置/有機進樣適用于半導體材料分析

發(fā)布時間:2025-3-25

合作伙伴:河北某半導體材料公司

儀器類型:電感耦合等離子體質(zhì)譜儀

品牌:安捷倫

型號:ICPMS 7900S

2025年03月22日,河北某半導體材料公司購買我司安捷倫電感耦合等離子體質(zhì)譜儀ICPMS 7900S,配置氬氧裝置,氫氣碰撞裝置,有機進樣系統(tǒng),全新鉑金錐,是高配中高配,安裝調(diào)試培訓完畢,感謝客戶的支持與認可


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安捷倫 ICP-MS 7900S 是一款高性能的單四極桿電感耦合等離子體質(zhì)譜儀,特別適用于半導體材料分析等高要求的應用場景。

儀器特點

高基質(zhì)耐受性:7900S 具有出色的基質(zhì)耐受能力,其超穩(wěn)定的等離子體和可選的超高基質(zhì)進樣系統(tǒng)(UHMI)可處理高達 25% 總?cè)芙夤腆w(TDS)含量的樣品。

氦碰撞模式:配備高效的氦碰撞模式(KED),能夠有效消除多原子離子干擾,從而提高分析的準確性和靈敏度。

寬動態(tài)范圍:具備 11 個數(shù)量級的線性動態(tài)范圍(0.1-10×10^10 cps),可在同一次運行中同時測定痕量與常量元素。

快速信號采集:最短駐留時間可達 0.1 ms,支持單納米顆粒(spICP-MS)分析。

靈活的配置:可輕松連接到多種外圍設備,如激光剝蝕系統(tǒng)、有機溶劑引入系統(tǒng)等。


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配置選項

氬氧裝置:可用于等離子體氣、輔助氣和霧化氣等,確保等離子體的穩(wěn)定運行。

氫氣碰撞裝置:氫氣可作為碰撞/反應池氣體,用于進一步消除干擾,提高特定元素的檢測靈敏度。

有機進樣系統(tǒng):適用于有機溶劑樣品的分析,可有效減少樣品引入過程中的損失和污染。


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半導體材料分析的應用優(yōu)勢

高靈敏度:7900S 在整個質(zhì)量數(shù)范圍內(nèi)具有出色的靈敏度,能夠檢測到極低濃度的雜質(zhì)元素。

快速分析:快速信號采集和高效的碰撞/反應池技術,使得分析速度更快,適合高通量的半導體材料檢測。

高純度化學品分析:結合 UHMI 和氦碰撞模式,能夠?qū)崿F(xiàn)高純度加工化學品的超痕量分析。



典型應用

半導體材料中的雜質(zhì)檢測:能夠檢測到半導體材料中痕量的金屬雜質(zhì),如鐵、銅、鈉等。

高純度化學品分析:適用于分析用于半導體制造的高純度化學品,確保其純度符合要求。

納米顆粒分析:可用于檢測半導體材料中的納米顆粒,支持單納米顆粒(spICP-MS)分析。




安捷倫 ICP-MS 7900S 的這些特點和配置使其成為半導體材料分析的理想選擇。如果您有更多具體需求或問題,可以參考安捷倫文檔或聯(lián)系譜標技術支持獲取進一步幫助。


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TEL:400-800-3875